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シンガポール: 改正商標法

黒田 亮弁理士

シンガポール商標法が改正され、2004年7月1日施行された。

改正の概要は以下のとおりである。

1.商標の成立要件から「視覚による認識可能性」が 削除され、音響及び香りも商標登録が可能になった。

2.パリ条約上の優先権を伴う商標の登録であっても、存続期間はシンガポールでの出願日から起算されることになった。

3.更新登録の猶予期間が存続期間満了後の6ヶ月間認められることになったが、これに伴い登録失効後の回復期間は従来の12ヶ月から6ヶ月に短縮された。

4.1出願において、指定商品/サービス毎にパリ条約上の優先権を主張すること(複数優先)が可能となった。

5.周知・著名商標の定義が拡大されるとともに、保護が強化され、例えば、出所の混同を生じなくても周知・著名商標の識別機能を希釈化(“dilute”)するような第三者の商標の使用及び登録を排除することが可能となった。

6.商標の排他的使用権は、たとえ登録されなくても権利行使上の不利益は課されなくなった。しかし、使用権を登録すればいかなる第三者も当該使用権を知っていたとみなす効果が従前どおり認められるため、依然として使用権の登録には利点がある。

7.商標権者と排他的使用権者は、原則として、いずれも単独で権利侵害に対する訴訟の提起が可能になった。

8.模造品(“Counterfeit goods”)に関する規定が設けられ、商標権の保護が強化された。

9.商標権侵害訴訟において、一定の場合は、損害賠償金と不当収益弁済金(“Account of Profit”)の両方の請求を裁判所が認めることが可能になった。また、権利者側は一定の場合、実際の損害額を立証せずとも、100万シンガポールドルを超えない範囲で法定損害金(“Statutory Damages”)を得ることが可能となった。

10.模造品の税関差止のために権利者が税関当局に申請する事項が簡略化された。

執筆者

商標・意匠部アソシエイト 弁理士

黒田 亮 くろだ まこと

[業務分野]

意匠 商標

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