台湾： 特許侵害鑑定要点など

中西 基晴弁理士

① 特許侵害鑑定要点（ガイドライン）
知的財産局は、侵害鑑定の正確さの向上を目的として、特許侵害鑑定要点（草案）という侵害有無の鑑定のためのガイドラインを作成した。

このガイドラインは、2004年10月 5日に司法院に提出され、そして司法院が 2004年11月 2日にすべての裁判所の裁判官に提供された。尚、これは、参考に供されたもので、裁判所または侵害鑑定機関等を拘束するものではないことが明示されている。

本ガイドラインは、上編（特許権と侵害について）と下編（特許侵害の原則）で構成され、下編は、「発明又は実用新案）の特許侵害の鑑定原則」と「意匠登録侵害鑑定の原則」に分かれる。発明又は実用新案の編においては、「適用範囲」、「鑑定の流れ」、「鑑定方法」の章が含まれ、特に「鑑定方法」においては、特許請求の範囲の解釈、解釈を経た特許請求の範囲と鑑定対象との比較などについて説明され、文言侵害、逆均等論、均等論、禁反言、従来の技術の抗弁などが解説されている。

② 特許法改正の計画
知的財産局は、特許法の改正を計画しており、以下の制度の導入を検討している。
・発明と実用新案の二重出願制度の導入
・特許料不納の場合の救済規定の導入
・動植物特許の開放など