意匠・商標制度からみた著作権制度 ―制度間競争とその調整―
業務分野:知財一般、意匠、商標
カテゴリー:その他
著者など | 青木 博通 |
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業務分野 | 知財一般 意匠 商標 |
出版日 | 2019年9月1日、10月1日 |
掲載誌・出版物 | 発明 116巻9号、10号 |
概要
目次
Ⅰ はじめに
Ⅱ 商標制度からみた著作権制度
1.商標の定義
2.キャラクター
3.立体商標
4.音商標
5.動き商標(以上116巻2号)
6.商標権と著作権との抵触の調整規定(以上、3号)
Ⅲ 意匠制度からみた著作権制度
1.意匠の定義の拡大
2.美感(以上、5号)
3.画像を含む意匠―物品性との関係(以上、7号)
4.空間デザインの保護―物品性との関係
5.工業上利用可能性(意匠法3条1項柱書)-著作権との関係
6.創作非容易性(意匠法3条2項)-著作権との関係(以上、8号)
7.意匠権と著作権との抵触の調整規定
8.応用美術の著作権法による保護(日本)(以上、9号)
9.応用美術の著作権法による保護(外国)
10.AIPPI(決議)
11.意匠出願の減少
Ⅳ 制度間競争とその調整
1.商標制度と著作権制度の競争とその調整(以上、10号)
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